データ ストレージ

データ ストレージ

Veecoは、製造コストの低減と面密度の向上を実現する技術革新に取り組んでいます。

Veecoは、ハードディスクドライブ(HDD)製造業界向けの世界でも有数の薄膜磁気ヘッド(TFMH)製造機器サプライヤとして、コストの削減と面密度(保存できるデータ量)の向上を実現する技術革新に取り組んでいます。

面密度の向上が可能

ハードディスクドライブは、ラップトップからノートパソコン、デジタルビデオレコーダー、PDA、さらにはGPSシステムまで、数多くのハイテク製品に不可欠な部品です。Veecoは、充実したナレッジ ベース、豊富なプロセス機器ソリューション、および世界規模のネットワークにより、新たな応用分野での利点を活かす戦略的パートナーシップを提供します。Veecoのイオンビーム エッチング/蒸着装置、物理気相成長装置、およびラッピング/ダイシング装置であれば、より高いデータストレージを実現し、高い歩留まりと均一性が得られます。

Veecoの強みは以下の通りです。

  • NEXUS® PVDシステムなど、次世代型蒸着のご要望に応える業界トップレベルの製品
  • NEXUSシステムは、Veecoのイオンビーム エッチング、イオンビーム蒸着、物理気相成長などの補完的技術を備えた一般的なハードウェアとソフトウェアのプラットフォームを持ち、業界でも有数の低所有コストを誇る機器プラットフォームです。
  • 最大の実績を持つ導入装置台数および 24 時間体制のプロセス サポート

HDD 製造ソリューション

Veecoは、HDD製造を新たな生産レベルに引き上げる業界リーダーです。

イオンビーム エッチング装置

NEXUS®イオン ビームエッチング(IBE)システムで、不連続マイクロ電子デバイスおよびコンポーネントの高歩留まり生産のために、精密で複雑なパターンをエッチングします。

イオンビーム蒸着

イオンビーム蒸着(IBD)システムによって、均一性と再現性を最大限に高める、極めて精密で高純度の薄膜層デバイスを生み出します。

PVD システム

Veecoの物理蒸着システムは、多様な薄膜蒸着アプリケーションに最大限の柔軟性を提供します。

ダイヤモンドライク カーボン(DLC)

VeecoのNEXUS DLC-Xシステムで、高密度かつ均一で、再現可能なダイヤモンドライク カーボン(DLC)の薄膜を蒸着し、長寿命のTFMHスライダーオーバーコートとランディングパッドを作ります。

化学気相成長法

Veecoの化学的気相成長システムによって、次世代TFMHを実現するコンフォーマル金属成膜プロセスが実現します。

ダイシング&ラッピング システム

Veecoのダイシング&ラッピング システムは、読み取り/書き込み記録ヘッド、LED、太陽電池、マイクロエレクトロニクス、フォトニクスなどの広範な用途向けに高い生産性を備えたダイシング ソリューションを提供します。

ラッピング システム

Veecoの高精度のハードディスク ヘッドのラッピング システムは、重要な薄膜の寸法を最大限に制御し、自動化されたバックエンド処理に簡単に統合するよう設計されています。

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当社の販売チームによる支援が可能になります。