Mark II+コントローラ


エンドホール イオン ソース プラズマ特性に適合する設計

Mark II+イオンソースコントローラを使用することで、イオンソース性能と薄膜エッチング、処理および蒸着均一性を最大化することができます。Veecoにより、エンドホール イオン ソースのプラズマ特性に合わせて設計されており、高生産プロセスの実行およびイオン ビーム出力の精密な制御をより確実にする支援をします。

  • 最新式のスイッチ切替
  • 統合気体制御
  • 自動アーク回復
  • ユーザーフレンドリーなグラフィックインターフェースおよびオートメーション機能により、プロセス生産性を拡大
  • 統一性の高い安定したイオンビームプロセス用に、安定した信頼性の高い電源を提供

当社のチームがお手伝いいたします。