グリッド付き RF イオンソース

グリッド付き RF イオンソース

VeecoのグリッドRFイオン ソースは、長時間稼働イオン ビーム蒸着プロセスの生産性を向上させるように設計されています。

NOVUS RFイオン ソース コントローラ

VeecoのNOVUS RFイオン ソース コントローラは、最先端の高精度コントロール システム設計がなされているため、安定した電力をイオン ソース動作用に提供します。

6 cm x 22 cm RF イオン ソース

基板の付いた生産性の高いインライン システム向けに設計されたVeecoの6 x 22cmグリッド入りリニアRFイオン ソースは、100パーセント反応ガスを使用するプロセスに最適です。

6 cm x 66 cm RF イオン ソース

大型基板の均一な処理に最適なVeecoの6 x 66cm RFリニア イオン ソースは、長期無停止生産用に、省メンテナンス性でフィラメントなしの動作を提供します。

16cm高出力RFイオン ソース

反応プロセスでの利用に最適なVeecoの16cm RF HPイオン ソースは、120cmにわたって10%未満のビーム均一性を実現します。

16cm RFイオンソース

高度に制御される光学的コーティングのイオン ビーム アシストまたはイオン ビーム蒸着などの反応処理用の広範で均一なイオン ビーム ソースを実現できます。

12cm RF イオンソース

光学コーティングのイオン ビーム アシスト蒸着やイオン ビーム蒸着のような長時間の連続反応性プロセスの性能および品質の向上を目指すための、Veecoの12cm RFイオン ソースをご利用ください。