特殊ソース

特殊ソース

Veecoは、シングルおよびデュアル フィラメントを含む多様な仕様を取り揃え、お客様にとって最適なMBEソースが選択できる機会を提供しております。

低温ガスソース

Veecoの低温ガスソースは、MBEシステムにおいてCBr4やNH3のようなガスソースの低コスト導入を実現します。

ガス クラッカー

ガスの高性能UHV供給のためのVeecoのガス クラッカーは、フラックス均一性を最適化するための独自の機能を備えています。

格納式ソース

Veecoの格納式ソースは、メンテナンスやシステム アップタイムのためのソースの取り外しなど、MBEの基本的な制約に対応しています。

原子-Hソース

1800~2200°C間で作業できるよう設計されている高融点金属ソースである原子Hソースは、ほとんどの準備および成長チャンバーと互換性があります。

酸素耐性ソース

Veeco抗酸素寿命延長ソースにより、中間温度および部分的圧力において精密な分子線エピタキシー(MBE)動作を実現します。

酸素、窒素および水素用単一バルブRFプラズマソース

単一バルブRFプラズマ ソースを使用すると、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス原料のGaN成長のための最適条件に加え、プラズマの比類のない安定性と再現性を実現できます。