アルミニウム用コールドリップSUMOソース

MBEにおける最適なアルミニウム蒸発源


Veecoの特許であるCold Lip SUMO®ソースは、III族(特にAl)原料蒸発用光学分子線エピタキシー装置(MBE)ソース技術を使用し、損傷を排除し、優れた厚さ均一性およびフラックス安定性を得ることができます。円筒形の水槽と小型テーパーオリフィスが付いた独特で特許取得済みのるつぼを装備しており、大容量、優れた流束均一性、最少シャッター流束過渡、または長期枯渇効果を提供します。

  • 350 台以上の出荷実績のある特許を有する設計
  • 容量の増加
  • AIのクリープによる損傷を排除
  • 極めて安定した動作により、毎日のフラックス キャリブレーションを最小に抑える
  • シャッタ フラックス変動を大幅に低減
  • 低バックグラウンド不純物
  • PBN るつぼ構造で、素材品質を最適化

SUMOソースは、III族原料蒸発用の最適ソース技術です。アルミニウム蒸発用に特別設計されたコールドリップ ソースは、一般的にPBNのアルミニウムが濡れることが原因で生じる原料の溢れ出しを防ぎます。

SUMO設計の特長は、独特な形のるつぼ用に作製されたデュアル フィラメント ヒーターとカスタム熱シールド キャップです。ヒーターと耐熱シールドは、るつぼ本体を効果的に加熱できるよう配置されており、るつぼ開口部の上にコールド リップが意図的に設計されています。開口部からアルミニウムが流出した場合は、大きなリップで凍結するため、ソースへの損傷はありません。デュアル フィラメントが「コールドリップ」モードで稼動していると、特定のソース ポートのアルミニウム フラックス均一性とソース充填レベルを最適化するために、温度勾配が調整される場合があります。

特許取得済みのるつぼ機能は、以下の通りです。

  • 大きな充填容量用の円筒形の水槽と最小化された長期枯渇効果
  • 最適なフラックス分布とほとんど無視できるシャッタ フラックス変動のための小型テーパー開口部
  • コールド ゾーンに用意された広いリップにより、アルミニウムがソースから流出した場合に凍結させ、ソースを保護します。適切な操作を行えば、アルミニウムがるつぼ開口部を超えて流出することはありません。アルミニウムの流出問題が特に深刻な窒化物を扱う場合に限り、原料固有の拡張リップSUMOるつぼを用意しています。拡張PBNリップるつぼにより、るつぼ冷却域を拡張し、融解アルミニウムおよび窒素化合物の含有量が増加させます
  • PBN るつぼ構造で、素材品質を最適化

SUMOソースでは、様々なサイズをご用意して、ほぼすべてのMBE装置に適用可能です。

性能と利点

SUMOソースでは、原料の品質やソース性能を低下させることなく、III族最大の充填容量を利用できます。基板全体にわたる膜厚均一性と、優れたサンプル品質が世界中の拠点で確認されています。

利点は以下の通りです。

  • 大きな充填容量。別のベンダーからの元のIII族ソースと比較すると、アルミニウムの充填容量は2倍以上になる場合があります。
  • 優れた均一性。SUMOソースは、当初推奨されたソースの場合、ほとんどのMBE装置で達成される膜厚の均一性(±1%)を満たすか、それを超えるように設計されています。
  • 長期フラックス安定性。独自の形状をしたSUMOるつぼは、円錐形るつぼに通常見られる長期枯渇効果を最小に抑えます。SUMOは、より一貫した再現可能な日々の操作で、一定の溶融面を示します。一定のビーム フラックスは、温度変化が小さく、頻度が低い状態で維持されます。
  • シャッタに関連したフラックス変動を低減。SUMOるつぼの小さい開口部の背面の置かれた溶融面は、ほとんどの反射による放射線から遮蔽されています。閉まったシャッターから反射された熱は、PBNるつぼと耐熱シールド キャップによって放散されます。
  • 優れたサンプル品質。PBNるつぼ構成と小さいるつぼ開口部は、効率的なデュアル フィラメント加熱と相まって、周囲の装置に対する熱負荷を低減し、成長した層におけるバックグラウンド不純物を少なくします。

コールドリップ モードで動作するSUMOソースは、ほとんどのアプリケーションで最適なアルミニウム ソースです。より小さい充填容量でも問題なく、ソース温度の高速なランピングが必要不可欠である場合は、標準的なデュアルまたは単一フィラメント ソースを利用したほうがよいでしょう。

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