フォトニクス用途向けのLumina As/P MOCVDシステム


20年以上にわたる大容量有機金属化学的気相成長装置(MOCVD)の経験を生かして、As/Pベースのフォトニクス デバイスを実現
Lumina R480およびR480Sシステムは、Veecoの業界をリードするMOCVD TurboDisc®テクノロジーに基づいており、長い稼働期間で卓越した均一性と低い欠陥率を特長とし、類のない歩留まりと柔軟性を実現します。さらに、Veecoの独自技術により、均一な熱制御が行われ、優れた膜厚と組成の均一性が実現されます。シームレスなウエハ サイズの変化を可能にするこのシステムは、直径6インチまでのウエハに高品質のAs/Pエピタキシャル層を蒸着させることができます。R480およびR480Sシステムでは、ユーザーはシステムをカスタマイズして最大の価値を得ることができます。

次世代デバイスを前進させるべく設計

面発光レーザー

  • 3Dセンシング
  • LiDAR
  • 高速データ通信

端面発光レーザー

  • 高度な光通信
  • シリコン フォトニクス

miniLEDおよびmicroLED

  • 4Kおよび8Kテレビ ディスプレイ
  • スマートフォン
  • ウェアラブル デバイス
  • AR/VR(拡張現実/仮想現実)

当社のチームがお手伝いいたします。