パワー、5G RF、フォトニクス向けのPropel 量産向け GaN MOCVDシステム

枚葉処理技術により、パワー、5G RF関連、およびフォトニクスアプリケーション向けの高効率的で高品質のGaNベースのデバイス制作を可能にします

VeecoのPropel™HVMGaN MOCVDシステムは、GaNベースのパワー、RF、およびフォトニクスデバイス向けに、独自技術を使い生産性の高い枚葉処理を可能とするクラスターシステムとして設計されています。単一ウエハを処理するプラットフォームでは、150mmおよび200mmウエハ上でクラス最高の高品質エピタキシャル成膜を実現し、卓越した均一性、再現性、および歩留まりを実現いたします。又Propel HVMシステムでは、最大6つのモジュラークラスターチャンバーの構成が可能となり、ファウンドリまたはIDMビジネス向けに理想的な高生産性と装置構成柔軟性を実現いたします。

The single-wafer reactor is based on Veeco’s leading TurboDisc® design with breakthrough technologies, including the IsoFlange™ and SymmHeat™ , that provide laminar flow and uniform temperature profile across the entire wafer. Customers can easily transfer processes from Veeco’s single wafer reactor Propel and K465i™ systems to the Propel HVM GaN MOCVD platform for fast development to production cycles