コーティングの究極の精度と均一性
原子層蒸着（ALD）は、エネルギー、光学、エレクトロニクス、ナノ構造、生物医学など、さまざまな業界にわたって大きな可能性を秘めています。このような領域の詳細については、用途セクションをご覧ください。
原子層蒸着（ALD）の原理は、化学的気相蒸着（CVD）に似ています。ただし、ALD反応は、CVD反応を2つの半反応に分解し、反応中にプリカーサー材料を分離した状態に保ちます。
これは、各パルス（反応サイクル）中にそれぞれが約1原子層を形成する特別なプリカーサー蒸気の連続パルスによって達成されます。その後、複数のプリカーサー材料を同時に導入する化学的蒸着とは対照的に、目的の膜厚が達成されるまで反応サイクルが繰り返されます。
当社の原子層蒸着（ALD）システム（Savannah®、Fiji®、およびPhoenix® Firebird™）は、極小の穴、トレンチ、キャビティの内側でも深く、完全に均一な膜厚を実現する、ピンホールのないコーティングを蒸着するよう設計されています。
このような高品質の膜を超高アスペクト比の基板に蒸着できる能力は、当社の原子層蒸着システムの主な特長です。
気体、液体、または固体のプリカーサーを使用して、さまざまな薄膜を蒸着できます。
ALDの材料セクションにある、一般的に使用されている材料のリストをご覧ください。
ALDをアクセス可能にし、研究者が財政的に利用できるようにすると同時に、ALDを簡略化する方法については、当社までお問い合わせください。
