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Veecoの比類のないイオンビームに関するノウハウは、実績のあるエッチングおよび蒸着成果を達成してきており、データ保管とMEMSの市場を数十年にわたり維持しています。
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Veeco 社では、蒸着（CVD）によるSiCのエピタキシャル成長を提供しています。当社は数十年の経験に基づき、運用コストを最小限に抑える一方で、品質と収量の点で達成可能な最高のパフォーマンスを実現します。
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Veecoは、業界最先端のさまざまなGaNおよびAs/P有機金属化学的気相成長装置（MOCVD）を提供して、スループットを最大化しながら、ディスプレイ、3Dセンシング、LiDAR、micro LEDディスプレイ、光学式データ通信を含む多様なアプリケーションの保有コストを低減しています。
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持続可能な慣行による表面処理は、自動車分野への応用、医療機器、5G、およびクラウド ストレージ向けの最先端のマイクロエレクトロニクスの信頼性を確保するためには、決定的に重要です。
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デバイス ノードの縮小が引き続き発生し、10nmと7nmのノードが生成され、さらに進展して3nmにまでなります。当社の原子層蒸着（ALD）ツールを使用すると、最も微細なノードにおいても、究極の精度と層の均一性を得ることができます。
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最先端のフォトニクス デバイスは、高度な薄膜技術を使って作られた精密光学に依存します。方形切断およびラップ仕上のニーズを当社に任せていただければ、強い耐性と極上の平坦性をお届けできます。
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AIやエッジ コンピューティングなど、最先端のコンピューティング プロセス向けに開発された最先端の半導体装置は、超高純度の環境で製造する必要があります。これこそ、材料の純度が最も重要となる場であり、当社が差を付けることができる場でもあります。
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顧客生産性ソリューション
当社は世界中どこでも必要とされる場所で力を結集して、適切な技術を適切なタイミングで応用して、障壁や課題を克服します。
発見
当社は貴社の複雑な課題および障害に対するソリューションを探し出して、貴社の技術を商用化に導きます。これは当社の使命であるだけでなく、情熱でもあります。
開発
当社は、多様なコア コンピテンシーを活用して、半導体、マイクロエレクトロニクス、およびその他の急速に成長を遂げつつある市場における今後のニーズを満たすさまざまなソリューションを開発しています。
コラボレーション
多様な専門分野に属する最高の知性を結集した当社のグローバル チームと協業することで、貴社は組織横断的な創造性と拡充された思考力を獲得して、最大の影響力を発揮することができます。
