Mark II+グリッドレス高出力

高電流、低エネルギー イオンが必要な応用に対応

Mark II+グリッドレス高出力イオンソースには、中空陰極（HC）があり、直径70～130cmのチャンバにおける真空コーティングプロセス用に設計されています。

• 高電流、低エネルギー イオン等、表面事前洗浄およびアシスト蒸着を必要とする応用に対応
• 膜応力および化学量の制御を改善
• 水冷
• 精密または工業用の光学コーティング環境に最適
• 柔軟な統合により、スペースを節約するシステム設計と広いビームアングルを実現
• プロセス要求に応じて、フィラメント付きまたはなしで構成可能