Mark II+コントローラ

エンドホール イオン ソース プラズマ特性に適合する設計

Mark II+イオンソースコントローラを使用することで、イオンソース性能と薄膜エッチング、処理および蒸着均一性を最大化することができます。Veecoにより、エンドホール イオン ソースのプラズマ特性に合わせて設計されており、高生産プロセスの実行およびイオン ビーム出力の精密な制御をより確実にする支援をします。

• 最新式のスイッチ切替
• 統合気体制御
• 自動アーク回復
• ユーザーフレンドリーなグラフィックインターフェースおよびオートメーション機能により、プロセス生産性を拡大
• 統一性の高い安定したイオンビームプロセス用に、安定した信頼性の高い電源を提供