フォトニクス用途向けのLumina As/P MOCVDシステム

20年以上にわたる有機金属化学的気相成長装置（MOCVD）の量産経験を生かして、As/Pベースのフォトニクスデバイスの生産を実現します
Lumina®システムは、Veecoが業界をリードするMOCVD TurboDisc®テクノロジーに基づいており、長い稼働期間で卓越した均一性と低い欠陥率を特長とし、類のない歩留まりと柔軟性を実現します。さらに、Veecoの独自技術により、均一な温度制御が行われ、優れた膜厚と組成の均一性を実現します。シームレスなウエハサイズの対応が可能なこのシステムは、直径8インチまでのウエハに高品質のAs/Pエピタキシャル層を蒸着させることができます。Luminaシステムでは、ユーザーはシステムをカスタマイズすることで最大の価値を得ることができます。