パワー、5G RF、フォトニクス向けのPropel 量産向け GaN MOCVDシステム

枚葉処理技術により、パワー、5G RF関連、およびフォトニクスアプリケーション向けの高効率的で高品質のGaNベースのデバイス制作を可能にします

VeecoのPropel™HVMGaN MOCVDシステムは、GaNベースのパワー、RF、およびフォトニクスデバイス向けに、独自技術を使い生産性の高い枚葉処理を可能とするクラスターシステムとして設計されています。単一ウエハを処理するプラットフォームでは、150mmおよび200mmウエハ上でクラス最高の高品質エピタキシャル成膜を実現し、卓越した均一性、再現性、および歩留まりを実現いたします。又Propel HVMシステムでは、最大6つのモジュラークラスターチャンバーの構成が可能となり、ファウンドリまたはIDMビジネス向けに理想的な高生産性と装置構成柔軟性を実現いたします。

単一ウエハ リアクターは、新しい IsoFlange™とSymmHeat™ テクノロジーなどの画期的な技術を採用した Veeco 社の最先端のTurboDisc® 設計に基づいています。これにより、ウエハ全体で層状の流量と一様な温度プロファイルが可能になります。迅速な開発と生産サイクルを実現するために、顧客は、Veeco 社の単一ウエハ リアクター Propel および K465i Modbus システムから Propel HVM GaN MOCVD プラットフォームへのプロセス移行を容易に行うことができます。