GENxplor 研究開発 MBE システム

一流の研究者が選んだ業界で最も先進的な高性能R&Dシステム

GENXplor
化合物半導体製造でCS Industry賞を受賞したGENxplor® R&D MBEシステムは、当社の実績ある3インチ成長チャンバー設計を活用して、他に類を見ないプロセスの柔軟性を実現し、UV LED、高効率太陽電池、高温超伝導体など新しい技術の材料研究にとって理想的なシステムです。すべての真空ハードウェアを内蔵電子回路と統合した効率的な単一フレーム設計により、他のMBEシステムと比べて40%の小型化を実現し、貴重な研究室のスペース節約に貢献します。また、この手動システムは単一フレームに統合されており、従来より短い時間での設置が可能です。さらに、GENxplorのオープン アーキテクチャ設計により、他のMBEシステムと比べ、使いやすさ、エフュージョン セルへのアクセス性、および保守性の向上が実現しました。
  • 直径3インチまでの基板上に高品質のエピタキシャル層を形成
  • 極度の電子ビーム温度ヒーター(>1850°C)
  • 他に類を見ない単一フレーム アーキテクチャで、使いやすさ、ソースへのアクセス性、および保守性を向上
  • 効率的な一体型設計で手動システムを内蔵電子回路と統合することにより、他のMBEシステムと比べ 40%のラボ スペース節約を実現
  • GaAs、窒化物、酸化物など、さまざまな材料の最先端研究に理想的
  • Molly® ソフトウェアで、レシピ作成、自動成長制御、データ常時記録を統合
  • オプションのNova™超高温基板ヒーターにより、1850°で定評ある性能を実現
  • GEN20™、GEN200®、GEN2000® の各 MBE システムへ直接拡張可能

CS Industry Innovation賞 - GENxcel MBEシステム

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