トグル ナビゲーション
English
中国
日本
台灣
한국
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
English
中国
日本
台灣
한국
市場
半導体
化合物半導体
データ ストレージ
科学 & その他
テクノロジーと製品
レーザー処理システム
リソグラフィー システム
イオン ビーム システム
蒸着システム
スパッタリング システム
エッチング システム
イオンソース
グリッド付き DC イオンソース
グリッドレス エンド ホール イオンソース
グリッド付き RF イオンソース
ダイヤモンドライク カーボン(DLC)
MOCVD システム
SiC CVDシステム
湿式処理システム
MBE テクノロジー
MBE システム
MBE ソース
ドーパント
高温
低温
中温
特殊ソース
MBE コンポーネント
原子層蒸着(ALD)システム
ALDの概要
ALDの利点
ALD for Research & Development
ALD for Manufacturing and Production
稼働中のALD
ALDの材料
ALDの用途
3Dナノファブリケーション向けALD
III-V族半導体装置
バッテリー
カルコゲナイド
エレクトロニクス
カプセル化
自己組織化単分子膜(SAMS)
水分解
ALDナレッジセンター
ALD周期表
ALD研究
ALDサービス
物理蒸着システム
ダイシング&ラッピング システム
ガス&蒸気供給システム
サービス&サポート
会社
リーダーシップ チーム
採用情報
沿革
品質
ニュース/ブログ
企業の社会的責任
企業文化
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
Latest News/Blogs
ニュース/ブログ
枚葉処理ウェットエッチングツールのアプリケーション固有の進化
2021年1月26日 | ブログ
Veeco、第4四半期および通年の2020財務結果および電話会議の日付を発表
2021年1月25日 | ニュース
5Gの展開:移行期の業界
2021年1月12日 | ブログ
台湾の主要なインフルエンサー、半導体技術ロードマップの実現を目的とした国際コンソーシアムにVeecoを指名
2021年1月11日 | ニュース
Veeco、今後の投資家イベントを発表
2021年1月04日 | ニュース
Global Semiconductor Company、GaNベースのパワー エレクトロニクスおよび5G RFデバイス向けにVeecoの有機金属化学的気相成長装置(MOCVD)プラットフォームを採用
November 30, 2020 | ニュース
Global Semiconductor Company Selects Veeco MOCVD Platform for GaN-Based Power Electronic and 5G RF Devices
November 30, 2020 | ニュース
Veeco Announces Exchange Transaction to Retire $125 Million of Its 2.70% Convertible Senior Notes Due 2023
November 12, 2020 | ニュース
OSRAM Selects Veeco’s Lumina MOCVD System for High-End LED Production and to Drive Next Generation Products
October 27, 2020 | ニュース
Veeco Reports Third Quarter 2020 Financial Results
October 27, 2020 | ニュース
9 of 13
« Previous
1
…
7
8
9
10
11
…
13
Next »
×