この小型ドーパントソースにより、分子線エピタキシー装置（MBE）内のドーパント成分を比較的低いフラックスで精密かつ安定した制御を行うことができます。その低熱質量により、高度ドーピングプロファイルのための優れた反応性、再現性、安定化、かつ、プラテン全体に一貫したフラックス均一性を得ることができます。効率的なセル加熱により、熱負荷が最小化されます。

• 極めて高い効率性
• ドーパント フラックスを提供する作業に合わせて調整
• 優れた導入による均一性を提供
• オーバーシュートを最小限に抑えながら、安定時間を迅速に確保するように設計
• 優れた再現性と信頼性
• 620台以上の出荷実績がある研究開発と生産に利用可能

Veecoドーパント ソースは、効率的な操作、高速な熱反応、および優れたフラックス均一性が得られるように設計されています。ドーパント原料に用いる比較的小さい容量で優れた均一性を達成するには、大テーパー角の円錐形のPBNるつぼを用いて、ビームの遮蔽またはコリメーションが生じないように、基板プラテン全体にわたり優れたフラックス分布を可能にします。

ソースは、ほとんどのドーパント原料に必要な比較的高い蒸発温度で効果的に動作し、周囲のMBE成長チャンバーに過度な熱負荷がかかることもありません。小さいドーパント ソースが単一フィラメントで加熱されるのに対し、大きなドーパントは並列動作する一対の同心ヒーター フィラメントが特長で、最も信頼性が高く効率的なソース加熱と応答性を実現します。

ドーパントソースは単一ウエハMBEシステムでは小型であるため、単一取付フランジ上で、二次ドーパントソースまたはガス注入管と組み合わせて使用することで、単一ソースポートで利用できるドーパントの範囲を拡大します。ソースフィラメントによって加熱されたガス注入管は、CBr4など熱プレクラッキングが不要なガス向けです。デュアルドーパントソースには5ccソースヘッドが2つあり、個別シャッターで熱と光を遮断して、1つの114mmフランジに取り付けられます。