GEN200 MBEシステム

市場で最もコスト効果が高く能力の大きいマルチ4インチ生産分子線エピタキシー装置(MBE)システム


VeecoのGEN200® MBEシステムは、現在の市場で最も費用効果と生産能力の高いマルチ4インチ量産向けMBEシステムです。本装置は、ポンプレーザー、面発光レーザーおよびヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBTs)のようなデバイスのGaAsまたはInPベースのウエハ成膜において、優れたスループット、長い稼働時間、卓越したウエハ品質をお届けします。

  • 最低コストで4 x 4インチ エピウエハの成長を実現
  • モジュラー アーキテクチャで、類似のMBEシステムより大幅に小さい設置面積を実現
  • 最大2つの成長モジュールが可能で、スループットの増加、または異なる材料の処理が実現
  • オプションのバルクヘッドを取り付けることにより、無菌室スペースが最適化
  • 業界で最も革新的で、信頼できるシステム ハードウェア、ソースおよびコンポーネントを組み込み

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