低コストを実現するには、分子線エピタキシー装置（MBE）システム用のVeecoの低温ガスソースを使用した、熱プレクラッキングなしのガス導入をお進めします。このソースには、素早いガス切り替え用大容量チューブ、および、優れた成膜均一性のための拡散板が備えられています。GaAs内のカーボン ドーピング用CBr4、および、GaN成膜用NH3、その他の熱プレクラッキングを必要としないガスに最適なガス インジェクターです。1つのマウンティング フランジ上のこのソースと、原子状水素ソースもしくは5ccのドーパント ソースを結合させることにより、装置の性能をより高めることができます。

• プレクラッキングを伴わずにガスを導入
• III-V族化合物のCドーピング用のCBr4ソース
• 完全CBr4ガス ハンドリング システムにより、ドーパントの気化および導入の精密制御を提供
• 50台以上の出荷実績