Veecoの加熱ビューポートは、分子線エピタキシー装置（MBE）システム内の光学ポートのコーティングを防ぎ、従来のビューポートでは実現できなかったin-situモニター技術を使用した結晶成長の連続的でリアルタイムなフィードバック制御を可能にします。加熱ビューポートにより、ラボは従来のビューポートをコーティングする材料を取り除くために、装置を換気する必要性がなくなります。

• Veeco加熱ビューポートは、MBEシステム内の光学ポートのコーティングを防ぎ、in-situモニター技術を使用して、結晶成長の連続的でリアルタイムのフィードバック制御を可能にします
• 材料によって徐々にコーティングされる従来の非加熱ビューポートよりも高い信頼性
• ビューポートから堆積物を除去するための、システムの大気開放が不要
• ビューポートは、室温から500°C以上まで加熱可能
• オプションの卓上直流電源には、ハーフラックまたはフルラックの取付キットが装備され、柔軟性を強化
• 7mの完全ベーク可能ケーブルが電源に付属