イオンビーム製品における25年のリーダーシップにより、今日の欠陥のない極端紫外（EUV）マスク ブランクを実現
フォトマスクの製造には、精緻な多層膜構造の蒸着と同時に、最高レベルの粒子制御が欠かせません。この課題を解決したのが、Veeco の Nexus IBD-LDD イオン ビーム蒸着システムです。1990年代からフォトマスク市場で成功を収めてきたVeecoは、長年にわたる研究成果を今日の最新鋭システムに注ぎ込みました。このIBD-LDDシステムは、今日のモリブデン（Mo）およびシリコン（Si）多層の蒸着と、ルテニウム（Ru）キャッピング層の蒸着を極端紫外（EUV）マスク ブランクや低欠陥率かつ先進的な薄膜を必要とするその他のマスク用途で行う場合に、理想的です。