NEXUS PVDi物理蒸着システム

柔軟性に富む蒸着プラットフォームで多様なアプリケーションに対応

Veecoの単一ターゲットNEXUS PVDi物理蒸着システムは、多様な薄膜蒸着アプリケーションに最大限の柔軟性を提供します。NEXUS PVDは200mmウエハ対応で、先進のプロセス機能、卓越した均一性、多様な蒸着モードを特長とします。

• 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援
• 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減
• NEXUSプラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチング、原子層堆積など、幅広いVeeco技術と統合