酸化物原料研究は、IC業界の重要性と、これらの原料を使って可能になったさまざまな電子的特性と光学的特性によって、長年にわたってかなり増えてきました。
酸素の腐食性により、酸素環境で薄膜研究を行う場合、装置に問題が生じる場合が多くあります。たとえば、基板温度を800°Cに維持しながら、10-5Torr以上の酸素環境で原料を加熱蒸発させるのが通常の方法です。酸素分圧および温度が高いと、ソースおよび基板ヒーターのヒーティング エレメントの寿命が大幅に短くなります。その結果、装置の稼働可能時間が短かくなり、キャンペーン時間の短縮と修復コストの上昇につながります。
モリブデンやタンタルのような従来の原料とは対照的な、特殊な耐酸素性原料を使用することにより、Veecoの革新的かつ実績のあるソースおよび基板ヒーターを高酸素分圧の環境下で稼働させることができます。Veecoの耐酸素性ソースは、最高1150°Cの温度と最大5mTorrの酸素分圧に対応しています。基板ヒーターは、最高800°Cの温度と最大5mTorrの酸素分圧で使用可能です。