Phoenix®システムは、パイロット生産から工業用グレードの製造まで、あらゆる製造環境で高スループットと最大限の稼働率を実現するように設計されています。技術者や研究者はPhoenix®を使用して、平坦基板や3D基板への再現性の高い高精度の膜蒸着を実現しています。また、Phoenix®は、最大6つの個別のプリカーサー ラインのサポートによって、薄膜のニーズに応じて、固体、液体、または気体のプロセス化学物質を提供します。コンパクトな設置面積と革新的な設計により、Phoenix®はバッチ生産ALDの要件を持つユーザーにとって実用的な選択肢となっています。
| 基板サイズ | 最大370mm x 470mm（Gen 2.5パネル） 最多360枚のウエハ – 100 mm（カセット） 最多160枚のウエハ – 150 mm（カセット） 最多100枚のウエハ – 200 mm（カセット） 最多40枚のウエハ – 300 mm（カセット） 3Dオブジェクトのカスタム ホルダー |
| 寸法（幅x長さx高さ） | 900mm x 1370mm x 1700mm |
| キャビネット | 煙探知付き通気キャビネット |
| 電力 | 208VAC 3相、 8500W（ポンプを除く） |
| 制御 | Windows™ PC |
| 基板温度 | 最大285ºC |
| 蒸着均一性（AI203) | ≤2% |
| 真空ポンプ | ドライ ポンプ ≥350 CFM |
| 互換性 | クリーンルーム適合 |
| プリカーサー供給システム | 標準装備の4つのラインは、固体、液体、気体のプリカーサーに対応 ラインは200°Cまで個別に加熱 |
| バルブ | 高速ALDバルブ |
| プリカーサー シリンダー | 3.1 lまたは600mlシリンダー |
| キャリア/排出用ガス | N2またはAr MFCフロー制御 |
| チャンバー容積（長さx幅x高さ） | （50cm、40cm、24cm） |