5G、フォトニクス、CMOS向けのPropel 300mm GaN MOCVDシステム

完全に自動化された枚葉処理クラスター システムにより、300mm基板上で5G RF、フォトニクス、および高度なCMOSデバイスの生産が可能になります。

完全自動単一ウエハー クラスター システムPropel™ 300mmは、300mm基板上で 5G RF、フォトニック、および高度な CMOSデバイスの製造を可能にする、業界で実証済みの唯一のGaN MOCVDツールです。

単一ウエハ リアクター プラットフォームを搭載したPropel 300mmシステムにより、300mmウエハ上で、卓越した均一性、再現性、および歩留まりという特性を備えた業界最高レベルの高品質エピタキシー膜を生産することができます。Propel 300mmシステムは、最大3のモジュラー クラスター チャンバーで構成することができ、最大の柔軟性と生産性を実現するために、カセット処理に自動カセットを提供します。

単一ウエハ リアクターは、ウエハ全体で層流と均一な温度プロファイルを実現するIsoFlange™ とSymmHeat™ 技術などの、Veeco 社の最先端TurboDisc® 設計に基づいています。迅速な開発と生産サイクルを実現するために、顧客は、Veeco 社の単一ウエハ リアクターPropelおよびPropel HVMシステムからPropel 300mm GaN MOCVDシステムへのプロセス移行を容易に行うことができます。