Veecoは、世界中の研究および産業向けの原子層蒸着(ALD)システムのリーディング プロバイダーであり、包括的なサービスと、入手しやすく、価格が手ごろで、原子スケールに正確な多用途のターンキー システムを提供しています。薄膜蒸着は当社の専門技術です。当社のSavannah®シリーズの薄膜蒸着ツールは、これらの能力を実証しています。
Savannah®は、原子層蒸着(ALD)に従事し、価格が手頃で、かつ堅牢なプラットフォームを求めている世界中の大学研究者に選ばれているシステムとなっています。当社は、過去10年間で数百ものこうしたシステムを提供してきました。Savannah®は、プリカーサーと省電力機能を効率的に使用することで、薄膜蒸着システムの運用コストを大幅に削減します。
Savannah®には高速空気圧パルス バルブが搭載されており、独自のExposure Mode™を使用して、超高アスペクト比の基板に薄膜を蒸着できます。この実績のある精密薄膜コーティング手法を使用して、アスペクト比が2000:1よりも大きい コンフォーマルで均一な膜を基板に蒸着できます。Savannah®は、S100、S200、およびS300の3つの構成で使用できます。Savannah®は、さまざまなサイズの基板を保持できます(S300の場合は、最大300mm)。Savannah®薄膜蒸着システムは、加熱されたプリカーサー ラインと、最大6つのラインを追加するオプションを備えています。Savannah®は、気体、液体、固体のプリカーサーを処理できます。
基板サイズ | Savannah S100:最大100mm Savannah® S200:最大200mm Savannah® S300:最大300mm |
寸法(w x d x h) | Savannah S100:585 x 560 x 980mm Savannah® S200:585 x 560 x 980mm Savannah® S300:686 x 560 x 980mm |
キャビネット | 取り外し可能なパネルとロック可能なプリカーサー ドアを備えた白い粉体塗装のスチール |
動作モード | Continuous Mode™(高速)またはExposure Mode™(超高アスペクト比) |
電力 | 115VACまたは220VAC、1500W(ポンプを除く) |
コントロール | LabVIEW™、Windows™ 7、Lenovoノートパソコン、USBコントロール |
最高基板温度 | S100:RT – 400 °C S200:RT – 350 °C S300:RT – 350 °C |
蒸着均一性 | (Al2O3)< 1%(1σ) |
サイクル時間 | 200 °CでAl2O3を使用した1サイクルあたりの秒数が<2 |
真空ポンプ | Alcatel 2021C2 – 14.6 CFM |
互換性 | クリーンルーム クラス100に対応 |
コンプライアンス | CE、TUV、FCC |
プリカーサー供給システム、ポート | 2ライン標準装備、最大6ラインが利用可能 各ラインは、固体、液体、および気体のプリカーサーに対応 ラインは200°Cまで個別に加熱可能 |
プリカーサー供給システム、バルブ | 業界標準の高速ALDバルブで、応答時間は10ミリ秒 |
プリカーサー シリンダー | 個別に加熱された50mlステンレス鋼シリンダー、オプションの大型シリンダーが利用可能 |
キャリア/排出用ガス | N2マスフロー制御、100 SCCM |
オプション | 低蒸気圧供給(LVPD)システム オゾン発生器 ウエハ カセットまたは3Dオブジェクト用のドーム リッド グローブ ボックス インターフェース In-Situ楕円偏光法 In-Situクオーツ クリスタル マイクロバランス(QCM) 自己構成単分子膜(SAMS) 粒子コーティング |