このソースは、高蒸気圧原料のコスト削減ソリューションに最適です。ホットリップ加熱設計は、るつぼ開口部における凝結を削減し、熱遮断囲いにより100～750°Cの範囲で最適なソース反応および安定性を実現します。

• この分野では400 以上の低温蒸発用のコスト効果的なソリューション
• 単一フィラメントホットリップ加熱で、るつぼオリフィス内の濃縮度を削減
• 優れたパフォーマンス
• 大部分のMBEシステムおよびカスタムUHVチャンバーに適合

低温シングル フィラメント ソースは、高蒸気圧原料で安定性のある一貫したフラックスを提供します。750°C以下での性能は、低熱量のため、従来のソースよりも優れています。このソースは熱遮断囲いにより、100～750°Cの範囲で最適なソースの応答性および安定性を実現します。高蒸気圧原料では、わずかな温度の変化もフラックスに著しい変化をもたらすため、温度の安定性が非常に重要です。

このソースは、改良されたシングル フィラメント設計が特長です。るつぼの下部を均一に加熱するフィラメントでのホットリップ加熱が可能ですが、開口部の放射熱損失を補うために、先端部分のフィラメント密度を高めています。ホットリップ加熱により、ソースの溜まりこみおよびビーム遮蔽につながる、るつぼの開口部における原料の再凝結を防ぎます。

低温シングル フィラメント ソースは、汎用アプリケーションに最適な性能と価値を提供します。要件が厳しい用途や大容量のソースが必要な場合は、低温デュアル フィラメントまたは低温SUMOソースをお勧めします。

性能および利点 低温シングル フィラメント ソースは、高蒸気圧原料の蒸着の必要性に合わせて設計されています。

利点は以下の通りです。

• 低動作温度で最適パフォーマンス
• 迅速なフラックス安定化
• 優れた長期間のフラックス安定性
• るつぼ開口部での凝結を防ぐホットリップ加熱（アンチモン、テルリウム、鉛化合物などの難しい原料について実績あり）