原子層蒸着（ALD）には、シリコンチップ動作の高速化からソーラーパネルの効率の向上や、医療用インプラントの安全性の向上に至るまで、幅広い用途にわたって製品設計を最適化できる可能性があります。
ALDの薄膜、高い接着特性、再現性のある成果は、多くの研究室や大量生産環境にとり理想的なものです。厳格な基準で薄膜を製造できるため、ALDは、ヘテロ構造、ナノチューブ、有機半導体などの困難な基板に高品質の膜を蒸着させるための強力なソリューションです。
多くの技術者や研究者が、蒸着、スパッタリング、化学蒸着などの古い蒸着技術をALDに置き換えて、3Dオブジェクト内およびその周囲にコンフォーマル コーティングを一貫性の高い方法で生成する独自の機能を利用しています。