原子層蒸着（ALD）

デバイス ノードの縮小が引き続き発生し、10nmと7nmのノードが生成され、さらに進展して3nmにまでなります。当社の原子層蒸着（ALD）ツールを使用すると、最も微細なノードにおいても、コーティングで究極の精度と均一性を得ることができます。