トグル ナビゲーション
English
中国
日本
台灣
한국
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
English
中国
日本
台灣
한국
市場
半導体
化合物半導体
データ ストレージ
科学 & その他
テクノロジーと製品
レーザー処理システム
リソグラフィー システム
イオン ビーム システム
蒸着システム
スパッタリング システム
エッチング システム
イオンソース
グリッド付き DC イオンソース
グリッドレス エンド ホール イオンソース
グリッド付き RF イオンソース
ダイヤモンドライク カーボン(DLC)
MOCVD システム
SiC CVDシステム
湿式処理システム
MBE テクノロジー
MBE システム
MBE ソース
ドーパント
高温
低温
中温
特殊ソース
MBE コンポーネント
原子層蒸着(ALD)システム
ALDの概要
ALDの利点
研究向けALD
生産向けALD
稼働中のALD
ALDの材料
ALDの用途
3Dナノファブリケーション向けALD
III-V族半導体装置
バッテリー
カルコゲナイド
エレクトロニクス
カプセル化
自己組織化単分子膜(SAMS)
水分解
ALDナレッジセンター
ALD周期表
ALD研究
ALDサービス
物理蒸着システム
ダイシング&ラッピング システム
ガス&蒸気供給システム
サービス&サポート
会社
リーダーシップ チーム
採用情報
沿革
品質
ニュース/ブログ
企業の社会的責任
企業文化
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
高温
Veeco高温ソースは、最高2000℃の低蒸気圧原料に利用できます。
高温ソース
Veecoの高温ソースにより、優れた高温動作およびより安定したビーム フラックスに対応します。熱蒸発を提供します…
続きを読む
格納式ソース
Veecoの格納式ソースは、ソース容量や、メンテナンスおよびシステム アップタイム向上のためのソースの取り外しなど、MBEの基本的な制約に対応しています。
続きを読む
×