トグル ナビゲーション
English
中国
日本
台灣
한국
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
English
中国
日本
台灣
한국
市場
半導体
化合物半導体
データ ストレージ
科学 & その他
テクノロジーと製品
レーザー処理システム
リソグラフィー システム
イオン ビーム システム
蒸着システム
スパッタリング システム
エッチング システム
イオンソース
グリッド付き DC イオンソース
グリッドレス エンド ホール イオンソース
グリッド付き RF イオンソース
ダイヤモンドライク カーボン(DLC)
MOCVD システム
SiC CVDシステム
湿式処理システム
MBE テクノロジー
MBE システム
MBE ソース
ドーパント
高温
低温
中温
特殊ソース
MBE コンポーネント
原子層蒸着(ALD)システム
ALDの概要
ALDの利点
研究向けALD
生産向けALD
稼働中のALD
ALDの材料
ALDの用途
3Dナノファブリケーション向けALD
III-V族半導体装置
バッテリー
カルコゲナイド
エレクトロニクス
カプセル化
自己組織化単分子膜(SAMS)
水分解
ALDナレッジセンター
ALD周期表
ALD研究
ALDサービス
物理蒸着システム
ダイシング&ラッピング システム
ガス&蒸気供給システム
サービス&サポート
会社
リーダーシップ チーム
採用情報
沿革
品質
ニュース/ブログ
企業の社会的責任
企業文化
IR
採用情報
ニュース/ブログ
お問い合わせ
イオンビーム システム & ソース
Veecoの比類のないイオンビームに関するノウハウは、実績のあるエッチングおよび蒸着成果を達成してきており、データ保管とMEMSの市場を数十年にわたり維持しています。
イオン ビーム システム
Veecoの比類のないイオンビームに関するノウハウは、実績のあるエッチングおよび蒸着成果を達成してきており、データ保管とMEMSの市場を数十年にわたり維持しています。
スパッタリング システム
素材が最も重要である場合、極めて精密で高純度の薄膜層デバイスは、当社のイオンビーム蒸着(IBD)システムを使うことで、最高の均一性と再現性を達成します。
続きを読む
蒸着システム
イオンビーム蒸着(IBD)システムによって、均一性と再現性を最大限に高める、極めて精密で高純度の薄膜層デバイスを生み出します。
続きを読む
エッチング システム
NEXUS®イオン ビームエッチング(IBE)システムで、不連続マイクロ電子デバイスおよびコンポーネントの高歩留まり生産のために、精密で複雑なパターンをエッチングします。
続きを読む
イオンソース
Veecoは、業界唯一のリニアグリッドソースなど、幅広い用途に対応する最も包括的なイオンビームソースを多数提供しています。
続きを読む
ダイヤモンドライク カーボン(DLC)
マイクロエレクトロニクス、医療機器、および自動車部品は、熱耐性および熱抵抗性を必要としますが、これらは、当社の蒸着システムで作成されたダイヤモンドライク カーボン膜でしか実現できません。
続きを読む
×