テクノロジーと製品

適切なテクノロジーを適切なタイミングで
当社は、お客様のニーズに応えるために、多様なコアコンピテンシーを活用して、価値の高いテクノロジーソリューションを、収益性の高い、持続可能な製品に変換します。

Veecoは、最先端のテクノロジーノードで熱アニーリングソリューションを実現する革新的な技術製品を開発しました。

Veecoは、ラインとスペースがますます小さくなっていくという増え続ける課題に特に対処できるように設計されたリソグラフィーシステムにおける市場リーダーです。

Veecoの比類のないイオンビームに関するノウハウは、実績のあるエッチングおよび蒸着成果を達成してきており、データ保管とMEMSの市場を数十年にわたり維持しています。

当社は数十年の経験に基づき、運用コストを最小限に抑える一方で、品質と収量の点で達成可能な最高のパフォーマンスを実現します。

3Dセンシング、ディスプレイ、LiDARからmicroLED、または光データ通信まで、当社のMOCVDシステムは、最大のスループットを実現します。

表面処理は、自動車分野への応用、医療機器、5G、およびクラウドストレージ向けの最先端のマイクロエレクトロニクスの信頼性に決定的に重要です。

当社の構成可能な分子線エピタキシー装置（MBE）システムを使用すれば、どのような用途向けにも珍しい化合物の半導体材料で構成される薄膜を一度に1つの結晶ずつ作成できます。

半導体デバイスのノードが微細化を続けるのに合わせて、当社の原子層蒸着（ALD）ツールは進歩を続け、最高の精度と均一性を提供します。

Veecoの物理蒸着システムは、先進のプロセス機能、卓越した均一性、多様な蒸着モードによって、多様な薄膜蒸着アプリケーションに最大限の柔軟性を提供します。

高度なフォトニクスデバイスは、厳しい公差と優れた平坦性を実現するために高度なダイシングおよびラッピングプロセスを使用して作成された精密な光学系に依存します。

高度なコンピューティングデバイスには、超高純度環境で得られる信頼性が必要です。当社のツールは、重要な相違を生み出します。