ガス&蒸気供給システム

AIやエッジコンピューティングなどの最先端のコンピューティング プロセス用に開発する高度な半導体デバイスには、当社の提供するガス・蒸着供給システムの超高純度環境が必要です。

ガス&蒸気供給システム

AIやエッジコンピューティングなどの最先端のコンピューティング プロセス用に開発する高度な半導体デバイスには、当社の提供するガス・蒸着供給システムの超高純度環境が必要です。

Apexガス混合システム

Apexガス混合システムによって、低コストの高濃度ガスを購入して生産コストを削減します。
続きを読む

精密ガス混合システム

精密ガス混合システムによって、高度な濃度制御を実現します。より厳密なプロセス用にガス混合物を生成します…
続きを読む

Piezocon ガス濃度センサー

CVDにおける化学前駆体蒸気とドーパント ガスの再現可能な蒸気供給制御の業界標準として…
続きを読む

テクノロジー＆製品

レーザー処理システム
リソグラフィー システム
イオン ビーム システム
蒸着システム
スパッタリング システム
エッチング システム
イオンソース
グリッド付き DC イオンソース
グリッドレス エンド‐ホール イオンソース
グリッド付き RF イオンソース
ダイヤモンドライク カーボン（DLC）
MOCVD システム
湿式処理システム
MBE テクノロジー
MBE システム
MBE ソース
ドーパント
高温
低温
中温
特殊ソース
MBE コンポーネント
原子層蒸着（ALD）システム
ALDの概要
ALDの利点
研究向けALD
生産向けALD
稼働中のALD
ALDの材料
ALDの用途
3Dナノファブリケーション向けALD
III-V族半導体装置
電池
カルコゲニド
エレクトロニクス
カプセル化
自己構成単分子膜（SAMS）
水分解
ALD知識センター
ALD周期表
ALD研究
ALDサービス
物理蒸着システム
ダイシング＆ラッピング システム
ガス&蒸気供給システム