特殊ソース

Veecoは、シングルおよびデュアル フィラメントを含む多様な仕様を取り揃え、お客様にとって最適なMBEソースが選択できる機会を提供しております。

低温ガスソース

Veecoの低温ガスソースは、MBEシステムにおいてCBr4やNH3のようなガス ソースの低コスト導入を実現します…
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酸素、窒素および水素用単一バルブRFプラズマソース

エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス材料のGaN成長のための最適条件に加え、プラズマの比類のない安定性と再現性を実現できます…
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ガス クラッカー

ガスの高性能UHV供給のためのVeecoのガス クラッカーは、フラックス均一性を最適化するための独自の機能を備えています。
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格納式ソース

Veeco格納式ソースは、メンテナンスやシステム アップタイムのためのソースの取り外しなど、MBEの基本的な制約に対応しています。
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原子-Hソース

1800～2200℃の範囲で作業できるよう設計されている高融点金属ソースである原子Hソースは、ほとんどの準備および…
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酸素耐性ソース

Veeco抗酸素寿命延長ソースにより、中間温度および部分的圧力において精密な分子線エピタキシー（MBE）動作を実現します。
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