Veecoの分子線エピタキシー装置（MBE）用下向きSUMO®ソースにより、大容量、優れたフラックス均一性、無視できるシャッタ フラックス トランジェント、および最小枯渇効果を実現します。ホットリップ加熱されたテーパーのある円錐形の出口部とオフセットを持たせた細い開口部によって、非対称な形状となっているSUMOるつぼと、デュアルフィラメントソースから構成されています。結果: 優れたマテリアル品質、低欠陥率、および優れた膜厚均一性を実現します。注：このソースはアルミニウム用ではありません。

• 75 台以上の出荷実績のある特許を有する設計
• 下向きポートで溶融材充填に対応
• 優れたフラックスの安定性と均一性
• PBN るつぼ構造で、素材品質を最適化

Veecoの下向きSUMOソースは、非対称のSUMOるつぼを備えたデュアル フィラメント ソースで、下向きソース ポートでの溶融材充填に対応するよう設計されています。細い開口部は溶液を含めるためオフセットされ、テーパーのある円錐形の出口部により、優れたフラックス均一性を提供します。この最新のるつぼ形状は、Veecoの特許取得済みSUMOテクノロジーでのみ使用可能です。

円錐形状の出口部でのホットリップ加熱により、充填材の再凝結を防ぎ、グループIIIに関連する楕円欠陥を最小限に抑えます。下部ヒーター フィラメントの設計と位置は、最適なフラックス安定性の実現のため、るつぼにおける充填材の不均一な分布に対応しています。このソースはアルミニウム用ではありません。

性能と利点

下向きソース ポートを使用すると、MBEシステムで使用可能なグループIIIソースの総数を増やすことができます。非常に豊富なソースにより、最も一般的に使用される原料の総充填容量が増し、目的の各フラックスに個別のソースを使用することにより、異なるフラックス設定の迅速な切り替えを可能にします。また、下向きSUMOソースを使用すると、浅い上向きポートの溶融ソース原料の充填容量を増やすことができます。たとえば、GEN IIIシステムの浅い上向きポートにおける175ｇの下向きSUMOソースのガリウム容量は425gですが、同じポートにおける400gの標準的なSUMOソースの容量は49gです。

円錐形の出口部設計により、システムの元のグループIIIソースでのフラックス均一性と同じレベルのフラックス均一性が保証されます。MOD GEN IIシステムの2インチのウエハ全体で、標準的な1%の均一性が確認されます。